Opis proizvoda
PEES (pEES) nosi kiselinu labilnu etoksietoksi zaštitnu grupu, koja se može brzo ukloniti kiselom katalizom. Odlikuje se dobrom termičkom stabilnošću i ultra malom količinom metalnih nečistoća. Može se polimerizirati za pripremu polihidroksistirena (PHS) za kemijski pojačan fotorezist KrF visoke rezolucije.
Specifikacija proizvoda
| Naziv proizvoda | PEES/4-(Etoksietoksi)stiren |
| CAS BR | 157057-20-0 |
| ARTIKL BR | M120 |
| Izgled | Bezbojna bistra tečnost |
| Čistoća | Veće ili jednako 99% |
| Sadržaj vode | Manje ili jednako 0,05 % |
| Nečistoće jona metala | Manje ili jednako 1 ppb |
| Paket | 100g/1kg/10kg itd. |
| Dostava | 2-3 dana |
| Skladištenje | sobnoj temperaturi |
| MSDS/COA/TDS | Povežite nas |
Primjena proizvoda
PEES (p-(1-Ethoxyethoxy) stiren) se uglavnom koristi za sintezu KrF fotootporne smole u poluvodičkoj mikroelektronici, funkcionalnim polimernim materijalima i naprednoj industriji istraživanja i razvoja novih materijala.
FAQ
P: Koji su zahtjevi za skladištenje PEES-a?
O: Stabiliziran TBC inhibitorom. Čuvati zatvoreno na 2~8 stepeni dalje od svjetlosti. Izolirajte zrak i izvor topline kako biste spriječili samopolimerizaciju vinila i prerano uklanjanje zaštite kiselinom.
P: Koji je princip PEES monomera u sistemu KrF fotootporne smole?
O: PEES sadrži etoksietoksi zaštitnu grupu osjetljivu na kiselinu. Fotokiselina nastala nakon izlaganja litografiji pokreće uklanjanje zaštite. Smola se mijenja iz alkalno nerastvorljive u alkalno rastvorljive kako bi se ostvario razvoj uzorka pločice.
P: Koja je zaštita potrebna za rad PEES-a prema SDS-u?
O: Iritira oči, kožu i respiratorni trakt. Operaciju treba izvoditi u dimnoj haubi sa zaštitnim naočalama, rukavicama otpornim na rastvarače i štitnikom za lice.
P: Koja je suštinska razlika između PEES i pACS/PTBS fotorezist monomera?
O: PEES ima etoksietoksi zaštitnu grupu sa brzom brzinom uklanjanja zaštite od kiseline. pACS treba hidrolizu za uklanjanje zaštite, PTBS ima terc-butoksi grupu. Dizajnirani su za različitu osjetljivost fotorezista.
P: Šta se dešava sa kiselinsko-labilnom zaštitnom grupom PEES monomera tokom izlaganja KrF fotorezistu?
O: Fotokiselina se stvara nakon izlaganja. Etoksietoksi zaštitna grupa se brzo cijepa. Polimer se pretvara u fenolnu hidroksilnu strukturu, mijenjajući se iz alkalno nerastvorljive u alkalno topljivo za razvoj litografskog uzorka.
Popularni tagovi: cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)stiren, Kina cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)stiren proizvođači, dobavljači
