CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-Acetoksistiren

CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-Acetoksistiren

Molekularna formula: C10H10O2
Molekulska težina: 162,19
Primjena: 4-acetoksistiren se uglavnom primjenjuje u poluvodičkoj mikroelektronici KrF fotorezistu, funkcionalnoj polimernoj smoli, adsorpcionoj smoli za jonsku izmjenu i industriji farmaceutske organske sinteze.
Pošaljite upit
Opis
Tehnički parametri

 

Opis proizvoda

 

 

4-acetoksistiren (AST) je stirenski monomer sa acetil zaštitnom grupom. Ima bolju stabilnost skladištenja od 4-hidroksistirena. Može se hidrolizirati nakon polimerizacije kako bi se dobio polihidroksistiren (PHS). Sa malo metalnih nečistoća, to je ključna sirovina osnovne smole za 248nm KrF fotootpor.

 

 

Specifikacija proizvoda

 

Naziv proizvoda pACS/AST/4-Acetoksistiren
CAS BR 2628-16-2
ARTIKL BR M212
Izgled Bezbojna bistra tečnost
Čistoća 99%
Gustina 1,06 g/mL na 25 stepeni
Indeks loma 1.538
Tačka ključanja 260 stepeni
Tačka topljenja 7-8 stepeni
Paket 100g/1kg/10kg itd.
Dostava 2-3 dana
Skladištenje 2-8 stepeni
MSDS/COA/TDS Povežite nas

 

Primjena proizvoda

 

4-acetoksistiren (pACS/AST) se uglavnom koristi u KrF fotorezistu za poluvodičku mikroelektroniku, funkcionalne polimerne smole i industriju farmaceutske organske sinteze.

 

product-3000-1095

 

FAQ

 

P: Kakvu ulogu pACS igra u proizvodnji KrF fotorezista?

O: Nakon polimerizacije i hidrolize, pACS formira PHS baznu smolu, koja je glavna smola koja stvara film 248nm KrF pozitivnog fotorezista i jedna od osnovnih sirovina za fotorezist.

P: Zašto pACS zahtijeva hlađenje na 2~8 stepeni?

O: pACS sadrži vinilne grupe i sklon je samopolimerizaciji na sobnoj temperaturi. Hlađenje na niskoj temperaturi zajedno sa TBC inhibitorom može efikasno inhibirati polimerizaciju i sprečiti preranu hidrolizu acetil zaštitnih grupa.

P: Koje prednosti formulacije pACS monomera može donijeti za KrF fotorezist?

O: pACS ima visoku čistoću i nisku količinu metalnih nečistoća. Polimerizovana PHS smola ima usku distribuciju molekulske težine. Rezultirajući KrF fotorezist pruža visoku rezoluciju slike i nisku hrapavost ivica, pogodan za finu proizvodnju silikonskih pločica.

P: Koji su scenariji prikladni za fotoosjetljive premaze napravljene od pACS-a?

O: Premaz ima otpornost na toplinu i može se koristiti kao zaštitni premaz za elektronske komponente kako bi se ispunili zahtjevi otpornosti na visoke temperature i zaštite izolacije.

 

Popularni tagovi: cas no:2628-16-2 pacs/ast/4-acetoksistiren, Kina cas no:2628-16-2 pacs/ast/4-acetoksistiren proizvođači, dobavljači